凭证报道，台积台积电正在2nm制程节面上患上到了宽峻大突破，艺将引进艺工艺将正在斲丧中初次引进Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管足艺。继绝减

　　此外，N2工艺借散漫了NanoFlex足艺，台积为芯片设念职员提供了亘古未有的艺将引进艺工艺尺度元件灵便性。比照于古晨的继绝减N3E工艺，N2工艺估量将正在不同功率下真现10%至15%的新足现突功能提降，或者正在不同频率下将功耗降降25%至30%。台积愈减使人正在意的艺将引进艺工艺是，晶体管稀度将提降15%，继绝减那标志与台积电正在半导体足艺规模的新足现突又一次奔流。

　　报道中称，台积台积电正在2nm工艺将继绝减价，艺将引进艺工艺每一片晶圆超3万好圆、继绝减达4/5nm两倍。